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1、2022年高三第二次模擬考試化學試題 含答案(V)
本卷共6題,每題6分,共36分。在每題給出的四個選項中,只有一項是最符合題目要求的。
以下數(shù)據(jù)可供解題時參考:
相對原子質量:H 1 C 12 N 14
1.下列除去雜質的方法正確的是
① 除去乙烷中少量的乙烯:光照條件下通入Cl2,氣液分離;
② 除去乙酸乙酯中少量的乙酸:用飽和碳酸氫鈉溶液洗滌,分液、干燥、蒸餾;
③ 除去CO2中少量的SO2:氣體通過盛飽和碳酸鈉溶液的洗氣瓶;
④ 除去乙醇中少量的乙酸:加足量生石灰,蒸餾。
A.① ② B.② ④ C.③ ④ D.② ③
2.若NA表示阿
2、佛加德羅常數(shù),下列說法正確的是
A.1 mol Cl2作為氧化劑得到的電子數(shù)為NA
B.在0℃,101kPa時,22.4L氫氣中含有NA個氫原子
C.14g氮氣中含有7NA個電子
D.NA個一氧化碳分子和0.5 mol 甲烷的質量比為7 :4
3.鎳鎘(Ni-Cd)可充電電池在現(xiàn)代生活中有廣泛應用。已知某鎳鎘電池的電解質溶液為KOH溶液,其充、放電按下式進行:Cd + 2NiOOH + 2H2OCd(OH)2 + 2Ni(OH)2
有關該電池的說法正確的是
A.充電時陽極反應:Ni(OH)2 -e— + OH- == NiOOH + H2O
B.充電過程是化學能轉化為電能的
3、過程
C.放電時負極附近溶液的堿性不變
D.放電時電解質溶液中的OH-向正極移動
4.下列裝置或操作能達到實驗目的的是
5.下列排列順序正確的是
①熱穩(wěn)定性:H2O>HF>H2S ②原子半徑:Na>Mg>O
③酸性:H3PO4>H2SO4>HClO4 ④結合質子能力:OH->CH3COO->Cl-
A.①③ B.②④ C.①④ D.②③
6.下列溶液中有關物質的量濃度關系正確的是
A.pH=2的HA溶液與pH=12的MOH溶液任意比混合:
c(H+) + c(M+) == c(OH-) +
4、 c(A-)
B.pH相等的CH3COONa、NaOH和Na2CO3三種溶液:
c(NaOH)<c(CH3COONa)<c(Na2CO3)
C.物質的量濃度相等CH3COOH和CH3COONa溶液等體積混合:
c(CH3COOH)+2c(OH-) == 2c(H+) + c(CH3COO-)
D.0.1mol·L-1的NaHA溶液,其pH=4:c(HA-)>c(H+)>c(H2A)>c(A2-)
7.(14分)
W、X、Y和Z都是周期表中前20號元素,已知:
①W的陽離子與Y的陰離子具有相同的核外電子排布,且能形成組成為WY的化合物;
②Y和Z屬同主族元素,它
5、們能形成兩種常見化合物;
③X和Z屬同周期元素。它們能形成兩種氣態(tài)化合物;
④W和X能形成組成為WX2的化合物;
⑤X和Y不在同一周期,它們能形成組成為XY2的化合物。
請回答:
(1)W元素是 ;Z元素是 。
(2)化合物WY和WX2的化學式分別是 和 。
(3)Y和Z形成的兩種常見化合物的分子式是 和 。
(4)寫出X和Z形成的一種氣態(tài)化合物跟WZ反應的化學方程式:
6、
8.(18分)
下圖中的A、B、C、D、E、F、G均為有機物
據(jù)上圖回答問題:
⑴D的化學名稱是 。B所含官能團的名稱是 。
⑵反應③的化學方程式是: ?。ㄓ袡C物須用結構簡式表示)
⑶B的分子式是:
A的結構簡式是 A反應的反應類型是
⑷符合下列3個條件的B的同分異構體的數(shù)目有 個(不包括B)
ⅰ)含有鄰二取代苯環(huán)結構、 ⅱ)與B有相同官能團、ⅲ)不與FeCl3溶液發(fā)生顯色反應。
寫出其中任意一個同分異構體的結構
7、簡式
⑸G是工業(yè)原料,用化學方程式表示G的一種工業(yè)用途
F的核磁共振氫譜峰面積之比為(由大到?。?
9.(18分)某學習小組用下圖裝置測定鋁美合金中鋁的質量分數(shù)和鋁的相對原子質量.
(1)A的儀器名稱為 A中試劑為 .
(2)實驗前,先將鋁鎂合金在稀酸中浸泡片刻,其目的是 .
(3)檢查氣密性,將藥品和水裝入各儀器中,連接好裝置后,需進行的操作還有:①記錄C的液面位置;②將B中剩余固
8、體過濾,洗滌,干燥,稱重;③待B中不再有氣體產生并恢復至室溫后,記錄C的液面位置;④由A向B中滴加足量試劑;⑤檢查氣密性,上述操作的順序是 ;(填序號)記錄C的液面位置時,除視線平視外,還應 .
(4)B中發(fā)生反應的離子方程式為 .
(5)若實驗用鋁鎂合金的質量為a g,測得氫氣體積為b ml(已換算為標準狀況),B中剩余固體的質量為cg,則鋁的相對原子質量為 .
(6)實驗過程中,過濾時所需玻璃儀器的名稱為 若未洗滌過濾所得的不溶物
9、,則測得鋁的質量分數(shù)將 .(填“偏大”、“偏小”、“不受影響”)
10.(14分)
高溫
氮化硅(Si3N4)是一種新型陶瓷材料,它可由石英與焦炭在高溫的氮氣流中,通過以下反應制得:
SiO2 + C+ N2 Si3N4 + CO
(1)配平上述反應的化學方程式(將化學計量數(shù)填在方框內);
(2)該反應的氧化劑是 ,其還原產物是 ;
(3)該反應的平衡常數(shù)表達式為K=;
(4)若知上述反應為放熱反應,則其反應熱△H 零(填“大于”、“小于
10、”或“等于”);升高溫度,其平衡常數(shù)值 (填“增大”、“減小”或“不變”);
(5)若使壓強增大,則上述平衡向 反應方向移動(填“正”或“逆”);
(6)若已知CO生成速率為v(CO)=18mol/(L.min),
則N2消耗速速率為v(N2)= mol/(L.min)。
化學參考答案
即可)每空2分
⑸
或CH2=CH2+H2OCH3CH2OH(寫任一個合理的反應式均可)2分
3:3:2 2分
9.(18分) 每空2分
(1)分液漏斗、NaOH溶液.
(2)除去鋁鎂合金表面的氧化膜.
(3)⑤①④③②(2分);使D和C的液面相平
(4)2Al+2OH-+2H2O=2AlO+3H2↑
(5)