應(yīng)用地球物理學(xué)習(xí)題答案.doc

.一、名詞解釋1地震勘探：是以不同巖石、礦石間的彈性差異為基礎(chǔ)，通過(guò)觀測(cè)和研究地震波在地下巖石中的傳播特性，以實(shí)現(xiàn)地質(zhì)勘查目標(biāo)的一種研究方法。2震動(dòng)圖：用t坐標(biāo)系統(tǒng)表示的質(zhì)點(diǎn)振動(dòng)位移隨時(shí)間變化的圖形稱為地震波的震動(dòng)圖。3波剖面圖：某一時(shí)刻t質(zhì)點(diǎn)振動(dòng)位移隨距離x變化的圖形稱之為波剖面圖。4時(shí)間場(chǎng)：時(shí)空函數(shù)所確定的時(shí)間t的空間分布稱為時(shí)間場(chǎng)。5等時(shí)面：在時(shí)間場(chǎng)中，如果將時(shí)間值相同的各點(diǎn)連接起來(lái)，在空間構(gòu)成一個(gè)面，在面中任意點(diǎn)地震波到達(dá)的時(shí)間相等，稱之為等時(shí)面。6橫波：彈性介質(zhì)在發(fā)生切變時(shí)所產(chǎn)生的波稱之為橫波，即剪切形變?cè)诮橘|(zhì)中傳播又稱之為剪切波或S波。7縱波：彈性介質(zhì)發(fā)生體積形變（即拉伸或壓縮形變）所產(chǎn)生的波稱為縱波，又稱壓縮波或P波。8頻譜分析：對(duì)任一非周期地震阻波進(jìn)行傅氏變換求域的過(guò)程。9波前面：惠更斯原理也稱波前原理，假設(shè)在彈性介質(zhì)中，已知某時(shí)刻t1波前面上的各點(diǎn)，則可把這些點(diǎn)看做是新的震動(dòng)源，從t1時(shí)刻開始產(chǎn)生子波向外傳播，經(jīng)過(guò)t時(shí)間后，這些子波波前所構(gòu)成的包攏面就是t1t時(shí)刻的新的波前面。10視速度：沿觀測(cè)方向，觀測(cè)點(diǎn)之間的距離和實(shí)際傳播時(shí)間的比值，稱之為視速度。V*11觀測(cè)系統(tǒng):在地震勘探現(xiàn)場(chǎng)采集中，為了壓制干擾波和確保對(duì)有效波進(jìn)行追蹤，激發(fā)點(diǎn)和接收點(diǎn)之間的排列和各排列的位置都應(yīng)保持一定的相對(duì)關(guān)系，這種激發(fā)點(diǎn)和接收點(diǎn)之間以及排列和排列之間的位置關(guān)系，稱之為觀測(cè)系統(tǒng)。12水平疊加：又稱共反射點(diǎn)疊加或共中心點(diǎn)疊加，就是把不同激發(fā)點(diǎn)不同接收點(diǎn)上接收到的來(lái)自同一反射點(diǎn)的地震記錄進(jìn)行疊加。13時(shí)距曲線：一種表示接收點(diǎn)距離和地震波走時(shí)的關(guān)系曲線，通常以接收點(diǎn)到激發(fā)點(diǎn)的距離為橫坐標(biāo)，地震波到達(dá)該接收點(diǎn)的走時(shí)為縱坐標(biāo)。14同向軸：在地震記錄上相同相位的連線。15波前擴(kuò)散：已知在均勻介質(zhì)中，點(diǎn)震源的波前為求面，隨著傳播距離的增大，球面逐漸擴(kuò)展，但是總能量保持不變，而使單位面積上的能量減少，震動(dòng)的振幅將隨之減小，這稱之為球面擴(kuò)散或波前擴(kuò)散。二、判斷題1視速度小于等于真速度。2平均速度大于等于均方根速度。 3.僅在均勻介質(zhì)時(shí)，射線與波前面正交。4.縱波和橫波都是線性極化波。5.地震子波的延續(xù)時(shí)間長(zhǎng)度同它的頻帶寬度成正比。6.傾斜界面情況下，折射波上傾方向接收時(shí)的視速度等于下傾方向的視速度。7.折射波時(shí)距曲線是通過(guò)原點(diǎn)的直線，視速度等于界面速度。12瑞雷面波是線性極化波。8.折射波的形成條件是地下存在波阻抗界面。9.對(duì)水平多層介質(zhì)，疊加速度是均方根速度。10.從各個(gè)方向的測(cè)線觀測(cè)到的時(shí)距曲線極小點(diǎn)位置，一般可以確定反射界面的大致傾向。11. 相遇觀測(cè)系統(tǒng)屬于折射波法的觀測(cè)系統(tǒng)12.將不能接收到折射波的區(qū)稱為盲區(qū)13反射界面越深，視速度越大，時(shí)距曲線越平緩。14同一巖土介質(zhì)中，縱波的吸收系數(shù)和橫波的吸收系數(shù)相等。15地震波在傳播中高頻成份損失較快，而存留了較低的頻率成分。16縱波傳播速度小于橫波傳播速度。17地震勘探中檢波器記錄的是波剖面。18 一般來(lái)說(shuō)，同一巖土介質(zhì)中，縱波的吸收系數(shù)大于橫波的吸收系數(shù)。19物質(zhì)越致密，其泊松比越小。20繞射波時(shí)距曲線極小值位于繞射點(diǎn)正上方。三、簡(jiǎn)答題1.用文字和圖示的形式分析震動(dòng)圖和波剖面圖振動(dòng)圖如下圖所示，假設(shè)在離震源距離為r1的A點(diǎn)觀測(cè)質(zhì)點(diǎn)振動(dòng)位移隨時(shí)間的變化規(guī)律，用時(shí)間 t 為橫坐標(biāo)，質(zhì)點(diǎn)位移u為縱坐標(biāo)作圖，可得圖（b）所示的圖形。 該點(diǎn)地震波振動(dòng)的位移大小稱之為振幅值變化、振動(dòng)周期（T）延續(xù)時(shí)間(Dt)等特征。這種用坐標(biāo)系統(tǒng)表示的質(zhì)點(diǎn)振動(dòng)位移隨時(shí)間變化的圖形稱為地震波的振動(dòng)圖。在實(shí)際地震記錄中，每一道記錄就是一個(gè)觀測(cè)點(diǎn)的地震波振動(dòng)圖。波剖面圖 如下圖所示，假定在某一確定的時(shí)刻 t，在距離震源點(diǎn)O的一定范圍內(nèi)的各不同距離的點(diǎn)上，同時(shí)觀察它們的質(zhì)點(diǎn)振動(dòng)的情況，并以觀測(cè)點(diǎn)與振源O的距離x為橫坐標(biāo)，以質(zhì)點(diǎn)離開平衡位置的位移 u為縱坐標(biāo)作圖所得圖形如下圖（b）所示從圖中可以看出質(zhì)點(diǎn)振動(dòng)的波長(zhǎng)l和該時(shí)刻的起振點(diǎn) x2（波前）及停振點(diǎn) x1（波尾）等特征。描述某一時(shí)刻 t 質(zhì)點(diǎn)振動(dòng)位移u 隨距離 x 變化的圖形稱之為波剖面圖。2.什么是視速度？什么是真速度？它們之間有什么關(guān)系？沿波射線傳播的速度是真速度（2分），沿測(cè)線方向傳播的速度是視速度（2分）。視速度與真速度之間的關(guān)系稱視速度定理，其表達(dá)式為：，其中V*為視速度，V為真速度，是射線與地面法線間的夾角3.折射波法有哪些觀測(cè)系統(tǒng)？單支時(shí)距曲線觀測(cè)系統(tǒng)、相遇時(shí)距曲線觀測(cè)系統(tǒng)、多重相遇時(shí)距曲線觀測(cè)系統(tǒng)以及追逐時(shí)距曲線觀測(cè)系統(tǒng)。4.什么是多次覆蓋系統(tǒng)？每激發(fā)一次，激發(fā)點(diǎn)和整個(gè)排列怎樣向前移動(dòng)？多次覆蓋觀測(cè)系統(tǒng)是根據(jù)水平疊加技術(shù)的的要求而設(shè)計(jì)的。水平疊加的概念：又稱共反射點(diǎn)疊加或共中心點(diǎn)疊加，就是把不同激發(fā)點(diǎn)、不同接收點(diǎn)上接收到的來(lái)自同一反射點(diǎn)的地震記錄進(jìn)行疊加。這樣可以壓制多次波和各種隨機(jī)干擾波，從而大大提高了信噪比和地震剖面的質(zhì)量，并且可以提取速度等重要參數(shù)。選定偏移距和檢波距之后，每激發(fā)一次，激發(fā)點(diǎn)和整個(gè)排列都同時(shí)向前移動(dòng)一個(gè)距離，直到測(cè)完全部剖面。5.影響地震波速度的主要因素有哪些？巖石的密度 孔隙度 壓力和溫度 埋藏深度和地質(zhì)年代 其它因素包括地質(zhì)構(gòu)造運(yùn)動(dòng)，巖層的風(fēng)化侵蝕等。6.單層傾斜界面折射波時(shí)距曲線的特點(diǎn)是什么？（1）上傾與下傾方向時(shí)距曲線斜率不同，其視速度不同，上傾方向視速度大于下傾方向的視速度。（2）上傾與下傾方向觀測(cè)到的初至區(qū)距離和盲區(qū)大小不同，在下傾方向接收時(shí)，初至區(qū)距離和盲區(qū)較小，截距時(shí)間也要小些。 在上傾方向接收時(shí)，初至區(qū)距離和盲區(qū)要大些，截距時(shí)間也要大些。據(jù)此可以判斷界面的傾向。（3）當(dāng) i+j90 時(shí)若在下傾方向接收，折射波射線將無(wú)法返回地面，這時(shí)盲區(qū)無(wú)限大。而在上傾方向接收，則入射角總是小于臨界角，無(wú)法形成折射波。(4)上傾與下傾方向觀測(cè)的視速度分別為： （a ） i=j V* （b） i <j V*為負(fù)(5)若已知V1，則可根據(jù)相遇時(shí)距曲線的視速度求得傾角和臨界角以及V2（V2 = V1 /sin i）。7.水平界面反射波時(shí)距曲線的特點(diǎn)是什么？（1）直達(dá)波的時(shí)距曲線為反射波時(shí)距曲線的 漸近線；（2）若界面R同時(shí)是折射界面，在臨界點(diǎn)附近，反射波受到折射波的干擾；（3）V*的變化原因，在于反射波到達(dá)各觀測(cè)點(diǎn)的入射角不同；（4）反射界面越深，視速度越大，時(shí)距曲線越平緩。8.地震波在傳播過(guò)程中的衰減規(guī)律是什么？地震波由于受波前擴(kuò)散和吸收衰減的影響，在介質(zhì)中傳播的振幅變化規(guī)律可用下式表示: 上式中a (f)為頻率的函數(shù). 除此以外，地震波在傳播過(guò)程中，當(dāng)遇到不同巖層的分界面時(shí)，將產(chǎn)生波的透射、反射及波的轉(zhuǎn)換等，如果分界面不平整，還會(huì)產(chǎn)生波的散射（漫射），這些過(guò)程也會(huì)損耗地震波的能量，使波的振幅減.9.什么是大地濾波作用?地震波在傳播過(guò)程中隨著距離或深度的增加，高頻成分會(huì)被很快地?fù)p失掉，而且波的振幅按指數(shù)規(guī)律衰減。實(shí)際地層對(duì)波的這種改造，通常稱為大地低通濾波器效應(yīng)。10.寫出縱波、橫波、面波速度的大小關(guān)系？面波<橫波<縱波12.形成地震反射波和折射波的條件是什么？形成反射波的條件：界面上下有波阻抗差異；形成折射波的條件：界面下層速度大于上層速度，并且達(dá)到臨界角i13.如何確定反射波法的最大和最小炮檢距1. 最大炮檢距xmax 就是炮點(diǎn)與最遠(yuǎn)一道之間的距離，一般最大炮檢距應(yīng)大致等于最深目的層的深度h，或 2. 最大炮檢距太大會(huì)帶來(lái)寬角反射的畸變影響； 3. 最小炮檢距xmin 是炮點(diǎn)與最近一道檢波器之間的距離,又稱偏移距； 4. xmin不應(yīng)小于最淺目的層的深度； 5. xmin大一些可以消除聲波和面波干擾。四、選擇題1振動(dòng)圖是A（A）一個(gè)質(zhì)點(diǎn)在振動(dòng)過(guò)程中，位移隨時(shí)間變化的曲線（B）一個(gè)質(zhì)點(diǎn)在振動(dòng)過(guò)程中，位移隨空間變化的曲線（C）波傳播過(guò)程中某一時(shí)刻整個(gè)介質(zhì)中所有質(zhì)點(diǎn)振動(dòng)隨空間變化的曲線（D）波傳播過(guò)程中某一時(shí)刻整個(gè)介質(zhì)中所有質(zhì)點(diǎn)振動(dòng)隨時(shí)間變化的曲線2. 某時(shí)刻的波前是B（A）該時(shí)刻所有剛停止振動(dòng)的質(zhì)點(diǎn)組成的曲面（B）該時(shí)刻所有剛開始振動(dòng)的質(zhì)點(diǎn)組成的曲面（C）該時(shí)刻所有正在振動(dòng)的質(zhì)點(diǎn)組成的曲面（D）以上說(shuō)法都不對(duì)3. 關(guān)于泊松比，下列敘述不正確的是D（A）介質(zhì)的橫向應(yīng)變與縱向應(yīng)變的比值稱為泊松比（B）當(dāng)增大時(shí)，對(duì)縱波的影響較大，對(duì)橫波的影響較?。–）已知介質(zhì)的泊松比，便可確定縱、橫波速度的比值（D）對(duì)于巖土介質(zhì)來(lái)說(shuō)，越堅(jiān)硬致密，泊松比越大4. 地震波的波長(zhǎng)l 是（A）的乘積 A 波速與周期 B 波速與頻率 C 波數(shù)與波速 D 波數(shù)與周期5. 若為波射線與地面法線之間的夾角，則視速度V*與地震波傳播的真速度V的之間的關(guān)系為（A） （B）（C）（D）6.滑行波是（ ）A、以下層速度沿界面滑行的折射波B、以下層速度沿界面滑行的透射波C、以上層速度沿界面滑行的透射波6. 當(dāng)遇斷層破碎帶時(shí)，地震波能量會(huì)變（） A 大 B 小 C 不變化 7. 關(guān)于橫波，下面敘述錯(cuò)誤的是（A）介質(zhì)發(fā)生切變時(shí)產(chǎn)生的波動(dòng)（B）當(dāng)其在介質(zhì)中傳播時(shí)，會(huì)形成間隔出現(xiàn)的壓縮帶和稀疏帶（C）質(zhì)點(diǎn)的振動(dòng)方向與波的傳播方向垂直（D）振動(dòng)強(qiáng)度隨波傳播距離的增大而減小8. 水平疊加時(shí)間剖面上，相鄰共反射點(diǎn)疊加輸出道（CDP）的間隔是道間距X的（） A 1 B 1/2 C 1/39. 下面不屬于折射波法觀測(cè)系統(tǒng)的是（A）多次覆蓋觀測(cè)系統(tǒng)（B）相遇時(shí)距曲線觀測(cè)系統(tǒng) （C）追逐時(shí)距曲線觀測(cè)系統(tǒng)（D）多重相遇時(shí)距曲線觀測(cè)系統(tǒng) 10. 不考慮波前擴(kuò)散和衰減，垂直入射時(shí)，反射系數(shù)與透射系數(shù)之和等于（ ） A 2 B 1 C 1/2 D 1/311. 反射介面和反射波時(shí)距曲線之間存在如下關(guān)系（A）反射界面越淺，視速度越小，時(shí)距曲線越平緩（B）反射界面越深，視速度越小，時(shí)距曲線越平緩（C）反射界面越淺，視速度越大，時(shí)距曲線越平緩（D）反射介面越深，視速度越大，時(shí)距曲線越平緩12. 當(dāng)?shù)孛婧头瓷浣缑鏋槠矫鏁r(shí)， 共炮點(diǎn)反射波時(shí)距曲線極小點(diǎn)處的視速度為（） A 無(wú)窮大 B 真速度 C 零 D 界面速度 13.折射界面（ ）A、埋藏越淺，折射波的盲區(qū)越大B、埋藏越淺，折射波的盲區(qū)越小C、埋藏深度與盲區(qū)大小無(wú)關(guān)14.動(dòng)校正的目的是（ ）A、將反射波時(shí)距曲線展成與地下界面一致的形狀B、消除多次波對(duì)時(shí)距曲線的干擾C、消除地形起伏，地表低速帶和炮點(diǎn)深度對(duì)時(shí)距曲線的干擾15. 波剖面是（A）一個(gè)質(zhì)點(diǎn)在振動(dòng)過(guò)程中，位移隨時(shí)間變化的曲線（B）一個(gè)質(zhì)點(diǎn)在振動(dòng)過(guò)程中，位移隨空間變化的曲線（C）波傳播某一時(shí)刻整個(gè)介質(zhì)中所有質(zhì)點(diǎn)振動(dòng)隨空間變化的曲線（D）波傳播某一時(shí)刻整個(gè)介質(zhì)中所有質(zhì)點(diǎn)振動(dòng)隨時(shí)間變化的曲線16. 關(guān)于淺層地震地質(zhì)條件，下列說(shuō)法正確的是（A）松散覆蓋層較厚的地區(qū)容易激發(fā)出能量較強(qiáng)或頻率較高的有效波。（B）激震點(diǎn)位于潛水面以下激發(fā)時(shí)，所產(chǎn)生的地震波能量較弱（C）地震界面和地質(zhì)界面是一致的（D）地震標(biāo)志層必須在較大范圍內(nèi)分布穩(wěn)定，且具有明顯的地震波運(yùn)動(dòng)17. 瑞利波面波、橫波和縱波速度的大小關(guān)系為（A）VRVSVP（B）VRVSVP（C）VRVSVP（D）VRVSVP18. 關(guān)于反射波時(shí)距曲線，下列說(shuō)法不正確的是（A）反射波時(shí)距曲線方程為雙曲線（B）直達(dá)波時(shí)距曲線是反射波時(shí)距曲線的漸進(jìn)線（C）反射界面越深，視速度越大（D）反射介面越淺，時(shí)距曲線越平緩19在盲區(qū)內(nèi)（ ） A 能同時(shí)接收到反射波和折射波 B 接收不到折射波C 接收不到反射波20當(dāng)無(wú)穿透現(xiàn)象時(shí)，不同炮點(diǎn)激發(fā)的同一界面的追逐時(shí)距曲線（） A 相互平行 B 不相關(guān) C 斜交 五、計(jì)算題1. 已知水平兩層介質(zhì)，上下兩層波速度分別為V1=1000m/s，V2=3000m/s，界面深度為20m，求折射波盲區(qū)半徑R。折射波視速度等于V2 、折射波的盲區(qū)半徑=2htgi 2.已知上下兩層的速度V1=1000m/s，V2=2000m/s，截距時(shí)間t0=60ms，求炮點(diǎn)處折射界面的法線深度及盲區(qū)半徑r。3.設(shè)有一均勻地層，其速度值為1000m/s。一組平行的波射線以與地面法線成60的方向入射，求在地面觀測(cè)到的視速度為多少？，4. 已知地下深度為30m處有一水平速度分界面，上下兩層速度分別為V1=1000m/s，V2=3000m/s，求折射波時(shí)距曲線的截距時(shí)間t0。5. 一個(gè)以a =30出射的反射波的視周期T* =50ms,視波長(zhǎng)l* =300m,試計(jì)算其視頻率f*和介質(zhì)中的波速度V6.請(qǐng)根據(jù)以下折射波相遇時(shí)距曲線和反射波時(shí)距曲線，判斷地下界面的形狀和傾向，并示意繪在圖的下方。7將下列圖中各界面的編號(hào)標(biāo)在它們所對(duì)應(yīng)的折射波或反射波時(shí)距曲線上。ttxxV1V2V3V4V11V22V33V44OO三、電法勘探部分1名詞解釋電阻率是表征物質(zhì)導(dǎo)電性的基本參數(shù)，某種物質(zhì)的電阻率實(shí)際上就是當(dāng)電流垂直通過(guò)由該物質(zhì)所組成的邊長(zhǎng)為 1m 的立方體時(shí)而呈現(xiàn)的電阻。視電阻率，進(jìn)行測(cè)量的地段地下巖石電性分布不均勻時(shí)，計(jì)算結(jié)果稱之為視電阻率，并用s表示。 電法勘探（人們常稱電法或電探）是勘探地球物理學(xué)中的一個(gè)分支，是電學(xué)、電磁學(xué)、電子學(xué)及電化學(xué)在解決地質(zhì)找礦及地質(zhì)學(xué)問題中發(fā)展起來(lái)的一門應(yīng)用科學(xué)?？v向電導(dǎo)，當(dāng)電流平行巖柱體底面流過(guò)時(shí)，所測(cè)得的電導(dǎo)稱為縱向電導(dǎo)。用S來(lái)表示橫向電阻，當(dāng)電流垂直巖柱體底面流過(guò)時(shí)，所測(cè)得的電阻稱為橫向電阻，用符號(hào)T來(lái)表示，單位為歐姆。積累電荷，在非均勻?qū)щ娊橘|(zhì)中，存在著電荷的體分布，這種電荷稱為積累電荷。積累電荷主要存在于電阻率不同的介質(zhì)分界面上。 電剖面法，電剖面法是用以研究地電斷面橫向電性變化的一類方法。電測(cè)深法， 電測(cè)深法是在地表某點(diǎn)測(cè)量電極不動(dòng)，按規(guī)定不斷加大供電極距，從而研究地表某點(diǎn)下方電性的垂向變化。正交點(diǎn)，地電斷面，在電法勘探中，我們通常把按電性不同所劃分的地質(zhì)斷面稱為地電斷面。理想導(dǎo)體，電阻率為零的導(dǎo)體為理想導(dǎo)體，實(shí)際工作中當(dāng)良導(dǎo)地質(zhì)體的電阻率遠(yuǎn)小于圍巖電阻率時(shí)，良導(dǎo)地質(zhì)體可近似的看作理想導(dǎo)體。自然電場(chǎng)法，自然電場(chǎng)是一種直流電場(chǎng)，在一定的地質(zhì)地球物理?xiàng)l件下，地中存在的天然穩(wěn)定電流場(chǎng)稱為自然電場(chǎng)?；谘芯孔匀浑妶?chǎng)的分布規(guī)律來(lái)達(dá)到找礦或解決其它地質(zhì)問題的一種方法稱為自然電場(chǎng)法。激發(fā)極化效應(yīng)激發(fā)極化效應(yīng)：在充、放電的過(guò)程，由于電化學(xué)作用所引起的隨時(shí)間緩慢變化的附加電場(chǎng)的現(xiàn)象。2. 判斷題1潛水面切割導(dǎo)體是電子導(dǎo)體產(chǎn)生自然電場(chǎng)的必要條件。2電阻率法勘探只能探測(cè)導(dǎo)電性好的低阻體。（）3當(dāng)電流由低阻介質(zhì)流向高阻介質(zhì)時(shí)，界面上積累負(fù)電荷，當(dāng)電流由高阻介質(zhì)流入低阻介質(zhì)時(shí)，界面上積累正電荷。4理想導(dǎo)體充電電場(chǎng)的空間分布取決于充電點(diǎn)的位置，與導(dǎo)體的形狀、大小、產(chǎn)狀及埋深無(wú)關(guān)。7電阻率測(cè)深法的勘探深度隨供電極距的增大而減?。?）5一般說(shuō)來(lái)，供電極距AB愈大，電法勘探深度也愈大。6中間梯度法適合于尋找陡傾的高阻巖脈（ ）7. 穩(wěn)定電流場(chǎng)中任一點(diǎn)的電流密度與該點(diǎn)場(chǎng)強(qiáng)成正比，與介質(zhì)的電阻率成反3、選擇題1關(guān)于穩(wěn)定電流場(chǎng)的基本規(guī)律，下面敘述錯(cuò)誤的是（A）穩(wěn)定電流場(chǎng)中電流處處連續(xù)（B）穩(wěn)定電流場(chǎng)中電位處處有限且連續(xù)（C）穩(wěn)定電流場(chǎng)中任一點(diǎn)的電流密度與該點(diǎn)場(chǎng)強(qiáng)成反比，與介質(zhì)的電阻率成正比。（D）穩(wěn)定電流場(chǎng)中電荷的分布不隨時(shí)間而改變2聯(lián)合剖面法的電場(chǎng)屬于（A）一個(gè)點(diǎn)電源的電場(chǎng)（B）兩個(gè)異性點(diǎn)電源的電場(chǎng)（C）兩個(gè)同性點(diǎn)電源的電場(chǎng)（D）三個(gè)點(diǎn)電源的電場(chǎng)3. QHK 型曲線反映的地下幾層地電斷面（A）1層（B）2層（C）3層（D）5層4. 視電阻率是（A）某一電性層（或?qū)щ妿r、礦體）的電阻率（B）電場(chǎng)作用范圍內(nèi)地形及各電性層（或?qū)щ妿r、礦體）電阻率的綜合反映（C）電場(chǎng)作用范圍內(nèi)各電性層（或?qū)щ妿r、礦體）的平均電阻率（D）測(cè)量電極M、N中點(diǎn)正下方某一層的電阻率5. 視電阻率與下列哪些條件無(wú)關(guān)（ ）。 A 裝置的電極距 b 圍巖的電阻率 c 供電電流 D 礦體的電阻率1 簡(jiǎn)答題（）簡(jiǎn)述影響巖、礦石電阻率的主要因素及巖、礦石電阻值變化的一般規(guī)律。自然狀態(tài)下，巖土的電阻率除了和組份有關(guān)外，還和其它因素有關(guān)，如巖石的結(jié)構(gòu)、構(gòu)造、孔隙度及含水性等。由于主要的造巖礦物如長(zhǎng)石、石英、云母等電阻率均相當(dāng)高，因此，對(duì)于一般巖石來(lái)說(shuō)，礦物骨架的電阻率是高的。一般巖石的電阻率要低于其所含礦物的電阻率。一般比較致密的巖石，孔隙度較小，所含水分也較少，因而電阻率較高；結(jié)構(gòu)比較疏松的巖石，孔隙度較大，所含水分也較多，因而電阻率較低。 （）穩(wěn)定電流場(chǎng)微分歐姆定律的表達(dá)及含義？穩(wěn)定電流場(chǎng)滿足歐姆定律，在微觀情況下，其微分形式是穩(wěn)定電流場(chǎng)中任一點(diǎn)的電流密度與該點(diǎn)場(chǎng)強(qiáng)成正比，與介質(zhì)的電阻率成反比。（3）裝置系數(shù)的含義，當(dāng)AB=l00m,MN=10m時(shí)對(duì)稱四極裝置系數(shù)K值的大小。K為電極裝置系數(shù)k是一個(gè)只與電極的空間位置有關(guān)的物理量。（4）何謂電阻率和視電阻率？試說(shuō)明其異同點(diǎn)。當(dāng)?shù)叵掳肟臻g有低阻不均勻體存在時(shí)，由于正常電流線被低阻體所吸引，使地表MN處的實(shí)際電流密度減少，所以 jMN<j0，rs<rMN 。當(dāng)?shù)叵掳肟臻g有高阻體存在時(shí)，用于正常電流線被高阻體所排斥，使地表MN處的實(shí)際電流密度增加，所以rs >rMN（5）決定和影響電阻率法勘探深度的因素是什么？勘探深度除了和極距有關(guān)外，還和地電斷面的性質(zhì)和結(jié)構(gòu)有關(guān)。能夠在地表產(chǎn)生可靠異常的最大深度，即為所用電極裝置及相應(yīng)極距的勘探深度。（6）何謂電剖面法？電剖面法中各種電極裝置形式的基本特征及相互間的關(guān)系怎樣？電剖面法是用以研究地電斷面橫向電性變化的一類方法。剖面法又分二極裝置、三極裝置、 聯(lián)合剖面裝置、對(duì)稱四極裝置、偶極裝置。二極裝置 這種裝置的特點(diǎn)是供電電極B和測(cè)量電 極N均置于無(wú)窮遠(yuǎn)處接地三極裝置：只將供電電極B置于無(wú)窮遠(yuǎn)，而將AMN沿測(cè)線排列進(jìn)行逐點(diǎn)觀測(cè)。 三極裝置通常取MN的中點(diǎn)作為觀測(cè)結(jié)果的記錄點(diǎn)。對(duì)稱四極裝置：這種裝置特點(diǎn)是AM=NB，記錄點(diǎn)取在MN的中點(diǎn)。取AM=MN=NB=a時(shí) ，這種對(duì)稱等距排列，成為溫納裝置，。聯(lián)合剖面裝置由兩個(gè)三極裝置聯(lián)合組成，其中電源負(fù)極置于無(wú)窮遠(yuǎn)，電源的正極可向極，也可向極中間梯度法：此方法是裝置將供電電極A和B固定在相距很遠(yuǎn)的地方，測(cè)量電極MN在AB中段的1/3的范圍內(nèi)逐點(diǎn)測(cè)量。 （7）什么是正交點(diǎn)和反交點(diǎn)？s曲線正、反交點(diǎn)的主要特征是什么？（8）電剖面法和電測(cè)深法的區(qū)別。 電測(cè)深法是在地表某點(diǎn)測(cè)量電極不動(dòng)，按規(guī)定不斷加大供電極距，從而研究地表某點(diǎn)下方電性的垂向變化。由于供電極距不斷加大，增大了供電電流在地下的分布范圍，實(shí)際上相當(dāng)于加大了勘探深度電剖面法是用以研究地電斷面橫向電性變化的一類方法。一般采用固定的電極距，并使電極裝置沿剖面移動(dòng)，這樣便可觀測(cè)到在一定深度范圍內(nèi)視電阻率沿剖面的變化（9）視電阻率微分公式的表達(dá)及推導(dǎo)過(guò)程，并說(shuō)明式中各量的含義。假設(shè)測(cè)量電極之間的距離為lsJMN*MN/JO (2分)，s：視電阻率（1分）； JMN ：MN間實(shí)際電流密度（1分）；MN：測(cè)量電極MN間實(shí)際電阻率（1分）； JO：地下為均勻介質(zhì)時(shí)，MN間的電流密度（1分）。（10）充電法的應(yīng)用條件是什么？1）被研究的對(duì)象（充電體）至少已有一處被揭露或出露，以便設(shè)置充電點(diǎn)；（2）充電體相對(duì)圍巖應(yīng)是良導(dǎo)電體；（3）充電體規(guī)模越大，埋藏越淺，應(yīng)用充電法的效果越理想。充電法的最大研究生度一般僅為充電體延伸長(zhǎng)度一半。（11）聯(lián)合剖面裝置的剖面曲線和相同極距的對(duì)稱剖面曲線什么關(guān)系？用圖示和公式表達(dá)出來(lái)。（12）什么是理想導(dǎo)體？理想導(dǎo)體充電電場(chǎng)有什么特點(diǎn)？（13）中間梯度法主要用來(lái)解決什么樣的地質(zhì)問題？中間梯度法主要用來(lái)尋找陡傾的高阻體，如石英脈、偉晶巖脈等。（14）積累電荷的特點(diǎn)是什么？在非均勻?qū)щ娊橘|(zhì)中，存在著電荷的體分布，這種電荷稱為積累電荷。由于在電法勘探中，主要考慮分區(qū)均勻的電性分布情況，所以積累電荷主要存在于電阻率不同的介質(zhì)分界面上。在場(chǎng)中某點(diǎn)附近取一閉合曲面，若流入、流出該曲面的電流密度通量不等于零，便出現(xiàn)電荷的積累。積累電荷的大小除了和該點(diǎn)電流密度有關(guān)外，還和界面兩側(cè)電阻率的差異有關(guān)。 （15）充電法的可以解決哪些地質(zhì)問題？（1）確定已揭露（或出露）礦體隱伏部分的形狀、產(chǎn)狀、規(guī)模、平面分布位置及深度；（2）確定已知相鄰礦體之間的連接關(guān)系；（3）在已知礦體附近找盲礦體；（4）利用單井測(cè)定地下水的流向和流速；（5）研究滑坡及追蹤地下金屬管線等。（16）何謂等價(jià)原則?怎樣解釋H(或A)型曲線和K（或Q）型曲的S2等價(jià)和T2等價(jià)現(xiàn)象？在電測(cè)深法的實(shí)際工作中，由于觀測(cè)誤差的存在，經(jīng)常會(huì)遇到地電斷面參數(shù)不同而視電阻率曲線卻完全相同的現(xiàn)象，把這種情況稱為電測(cè)深曲線的等價(jià)現(xiàn)象。對(duì)于三層地電斷面，存在S2和T2等價(jià)現(xiàn)象。1.H型 （或A型）斷面的S2等價(jià)現(xiàn)象 當(dāng)h1 、r1 、r3一定，而 n2較小的情況下，rs曲線中段極小值不明顯，只要保持中間層縱向電導(dǎo)S2不變，則rs電測(cè)深曲線的形狀也不變。對(duì)于A型三層斷面，同樣遵循S2等價(jià)原則。K型 （或Q型）斷面的T2等價(jià)現(xiàn)象當(dāng)h1、r1、r3 一定，n2較小的情況下，rs曲線的極大值不明顯，只要保持中間層橫向電阻T2不變，則rs曲線的形狀也不變。對(duì)于Q型三層斷面，第二層中的電流也近似于垂直層面流動(dòng)，同樣遵循T2等價(jià)原則3綜合題（1）用對(duì)稱四極剖面法測(cè)得某測(cè)的得UMN=10mV，I=40mA，已知供電電極AB=110m，測(cè)量電極MN=10m，試求該點(diǎn)視電阻率s值。k=*AM*AN/MN（2）AB=200米，MN/2=10米的對(duì)稱四極視電阻率測(cè)量中，測(cè)得供電電流為0.314A,電位差為20mV，求出視電阻率的大??？若供電電流加大一倍時(shí)，結(jié)果有無(wú)變化？為什么？若供電電流增大一倍，結(jié)果無(wú)變化，因?yàn)殡娏髟龃箅娢徊钜簿€性增大但其比值保持不變，所以結(jié)果不變。（3）作圖題繪出下列地質(zhì)剖面對(duì)應(yīng)的s測(cè)深曲線示意圖。lns（）飽和粘土粉質(zhì)粘土卵 石lnAB/2 根據(jù)地電斷面內(nèi)異常體的特征繪制聯(lián)合剖面曲線。1 12<12（4）繪出H、K、A、Q型對(duì)稱四極電測(cè)深曲線，并給出各類型地電斷面所對(duì)應(yīng)的層數(shù)及電性關(guān)系，并說(shuō)明這四種曲線類型分別可能反應(yīng)哪種等價(jià)現(xiàn)象。（5）標(biāo)出下列電阻率測(cè)深曲線的類型。ss（6）根據(jù)下列聯(lián)合剖面曲線判斷地質(zhì)體的傾向，并示意繪在曲線下方。1=100m h1=20m 2=300m h2=30m 3=220m（7）有如下地電斷面問題：（1）繪出對(duì)稱四極測(cè)深曲線。（2）確定曲線類型。（3）中間層橫向電阻T2 等于多少？（4）當(dāng)h2 =25 m，2 =360m時(shí)，曲線有無(wú)變化？為什么？（5）若2=180m，h2=30m時(shí)曲線發(fā)生了怎樣的變化？三、重磁勘探1. 1名詞解釋重力勘探以地殼中不同巖、礦石間之密度差異為基礎(chǔ)，通過(guò)觀測(cè)與研究天然重力場(chǎng)的變化規(guī)律以查明地質(zhì)構(gòu)造和尋找礦產(chǎn)的一種物探方法重力異常在重力勘探中，將由于地下巖石、礦物密度分布不均勻所引起的重力變化稱為重力異常。緯度改正地球表面的重力值隨緯度（j）而變化，為了消除由于測(cè)點(diǎn)所在的緯度不同而引起的重力變化，必須進(jìn)行緯度改正，地形改正即把測(cè)點(diǎn)平面以上的物質(zhì)除去，并把測(cè)點(diǎn)平面以下的空缺填補(bǔ)起來(lái)，這項(xiàng)工作叫地形改正，中間層改正，由于測(cè)點(diǎn)與基點(diǎn)之間還存在一定的高差，故測(cè)點(diǎn)到基準(zhǔn)面 （基點(diǎn)所在的水平面）之間的物質(zhì)對(duì)實(shí)測(cè)重力值亦會(huì)產(chǎn)生影響。消除這種影響的工作稱為中間層改正。布格改正，高度改正和中間層改正都和測(cè)點(diǎn)相對(duì)于總基點(diǎn)的高程有關(guān)，因此在重力測(cè)量的改正中，常常把兩項(xiàng)改正合并到一起，稱為布格改正布格重力異常，經(jīng)布格改正后的重力異常磁法勘探， 磁法勘探是利用地殼內(nèi)各種巖（礦）石間的磁性差異所引起的磁場(chǎng)變化（磁異常）來(lái)尋找有用礦產(chǎn)資源和查明地下地質(zhì)構(gòu)造的一種物探方法。地磁要素，地磁場(chǎng)強(qiáng)度一般用T來(lái)表示，它在X、y、Z三個(gè)軸上的投影分別為：北分量X，東分量Y，垂直分量Z。T在 xoy平面上的投影稱為水平分量 H，其方向指向磁北。上述x、y、z、H、T、D、I各量統(tǒng)稱為地磁要素剩余密度，磁化強(qiáng)度磁化強(qiáng)度M表示單位體積所具有的磁矩2簡(jiǎn)答題（1）重力勘探的應(yīng)用條件1）重力異常的產(chǎn)生首先必須有密度不均勻體存在。（2）僅僅有密度差也不一定能產(chǎn)生重力異常，還必須沿水平方向上有密度變化才行。（3）利用重力測(cè)量研究地質(zhì)構(gòu)造問題時(shí)，要求上部巖層與下部巖層有足夠大的密度差，且?guī)r層有明顯的傾角，或斷層有較大的落差。（2）磁化強(qiáng)度、感應(yīng)磁化強(qiáng)度、剩余磁化強(qiáng)度的概念是什么？他們之間有什么關(guān)系？磁化強(qiáng)度表示單位體積所具有的磁矩，用M表示。（1分）感應(yīng)磁化強(qiáng)度表示各種巖石在現(xiàn)代地磁場(chǎng)的磁化下所具有的磁性，用Mi表示（2分）。剩余磁化強(qiáng)度表示各種巖石在地質(zhì)歷史條件下被古地磁場(chǎng)磁化所保留下來(lái)的磁性，基本上不受現(xiàn)代磁場(chǎng)的影響而保持著其固有的數(shù)值和方向，用Mr表示（2分）。三者之間的關(guān)系：巖石的磁化強(qiáng)度由感應(yīng)磁化強(qiáng)度和剩余磁化強(qiáng)度兩部分構(gòu)成，即M=Mi+Mr（1分）（3） 什么是重力異常？什么是布格重力異常？3綜合題（1）畫出下列各種情況下的g曲線根據(jù)圖示，在下列剖面上畫出磁異常Za曲線。（2）關(guān)于布格校正，請(qǐng)回答以下問題：中間層校正與高度校正的物理含義是什么? 通過(guò)地形改正以后，測(cè)點(diǎn)周圍就變成水平面了。但由于測(cè)點(diǎn)與基點(diǎn)之間還存在一定的高差，故測(cè)點(diǎn)到基準(zhǔn)面 （基點(diǎn)所在的水平面）之間的物質(zhì)對(duì)實(shí)測(cè)重力值亦會(huì)產(chǎn)生影響。消除這種影響的工作稱為中間層改正。 經(jīng)過(guò)地形和中間層改正后，測(cè)點(diǎn)就懸在它所在的空間了。再經(jīng)過(guò)高度改正，就可以把它投影到基準(zhǔn)面上。由于地面上每升高1m，重力值大約減小3.086 g.u.。給出比總基點(diǎn)所在水準(zhǔn)面高出h1和低了h2的兩個(gè)測(cè)點(diǎn)上的布格校正公式。(3)畫出下列各種情況下的g曲線g+0- 1 1 1 0 0 10 10 1=0 5. 磁法勘探的應(yīng)用前提是（ ） A密度差異 B磁性差異 C電性差異 .